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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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（
2018年：第1542位 15件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第824位 25件
（
2018年：第1592位 11件）
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6625997 | タングステンＣＭＰ用の組成物 | 2019年12月25日 | |
| 特許 6616394 | タングステンのバフ研磨用組成物 | 2019年12月 4日 | |
| 特許 6612789 | タングステンの化学機械研磨組成物 | 2019年11月27日 | |
| 特許 6612790 | 銅バリアの化学機械研磨組成物 | 2019年11月27日 | |
| 特許 6603234 | タングステン材料のＣＭＰ用組成物及び方法 | 2019年11月 6日 | |
| 特許 6603309 | ゲルマニウムの化学機械研磨 | 2019年11月 6日 | |
| 特許 6595473 | 多孔質界面および中実コアを備えた研磨パッドならびにその装置および方法 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6595510 | 高い除去速度と低欠陥性を有する、ポリシリコン及び窒化物を上回り酸化物に対して選択的なＣＭＰ組成物 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6574244 | ＣＭＰ用の多層研磨パッド | 2019年 9月11日 | |
| 特許 6568198 | ＣＭＰ後の洗浄組成物及びそれに関連する方法 | 2019年 8月28日 | |
| 特許 6560246 | タングステンＣＭＰのための組成物 | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6557251 | 混合研磨剤タングステンＣＭＰ組成物 | 2019年 8月 7日 | |
| 特許 6553599 | 基材の選択的な研磨用の湿式法セリア組成物および関連する方法 | 2019年 7月31日 | |
| 特許 6542760 | 高分子フィルムの化学的−機械的平坦化 | 2019年 7月10日 | |
| 特許 6542761 | 混合研磨材の研磨組成物 | 2019年 7月10日 |
25 件中 1-15 件を表示
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6625997 6616394 6612789 6612790 6603234 6603309 6595473 6595510 6574244 6568198 6560246 6557251 6553599 6542760 6542761
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