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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第1087位 23件
（
2021年：第4398位 4件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第1898位 10件
（
2021年：第1299位 14件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7163387 | 減少した表面スクラッチを示すメモリハードディスクを研磨するための組成物および方法 | 2022年10月31日 | |
| 特許 7148395 | タングステン含有表面を処理するのに有用な化学機械研磨組成物及びタングステンを含む表面を含む基材を化学機械研磨する方法 | 2022年10月 5日 | |
| 特許 7148521 | 炭化ケイ素を研磨するための組成物及び方法 | 2022年10月 5日 | |
| 特許 7132942 | バルク酸化物の平坦化のための自己停止研磨組成物および方法 | 2022年 9月 7日 | |
| 特許 7066608 | 化学機械的研磨パッド、基板を化学機械的に研磨する方法、及び化学機械的研磨パッドを製造する方法 | 2022年 5月13日 | |
| 特許 7041135 | 改善されたディッシングおよびパターン選択性を有する酸化物および窒化物選択性のＣＭＰ組成物 | 2022年 3月23日 | |
| 特許 7021073 | 改善された安定性及び改善された研磨特性を有する、選択的窒化物スラリー | 2022年 2月16日 | |
| 特許 7021123 | アミン含有界面活性剤を含むポリッシング加工用組成物 | 2022年 2月16日 | |
| 特許 7000320 | 基礎層及びこれに取付けられた窓を有する研磨パッド | 2022年 1月19日 | |
| 特許 6989493 | 誘電体基板を加工するための方法及び組成物 | 2022年 1月 5日 |
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7163387 7148395 7148521 7132942 7066608 7041135 7021073 7021123 7000320 6989493
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