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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

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  2015年 出願公開件数ランキング    第1576位 15件 上昇2014年: 0件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第1350位 14件 上昇2014年: 0件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 5833288 酸化に対して安定化されたCMP組成物及びCMP方法 2015年12月16日
特許 5827221 ポリシリコン除去速度の抑制のためのCMP組成物および方法 2015年12月 2日
特許 5792889 窒化ケイ素材料の選択的研磨のための組成物および方法 2015年10月14日
特許 5781906 化学機械研磨組成物及びその使用方法 2015年 9月24日
特許 5749420 制御された細孔径を有する微孔質CMP材料の製造方法 2015年 7月15日
特許 5749719 バルクシリコンの研磨組成物および方法 2015年 7月15日
特許 5727141 界面活性剤を含有する、希釈可能なCMP組成物 2015年 6月 3日
特許 5711335 ニッケル−リン被覆アルミニウムハードディスクの研磨のための組成物および方法 2015年 4月30日
特許 5706336 ワイヤーソーのカッティング中に磁性不純物を連続的に除去するワイヤーソー装置及び方法 2015年 4月22日
特許 5698147 ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物 2015年 4月 8日
特許 5689581 ポリシリコンの除去を制御するための方法 2015年 3月25日
特許 5689970 高速及び低欠陥性のシリコン研磨組成物 2015年 3月25日
特許 5684801 ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 2015年 3月18日
特許 5675136 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 2015年 2月25日

14 件中 1-14 件を表示

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5833288 5827221 5792889 5781906 5749420 5749719 5727141 5711335 5706336 5698147 5689581 5689970 5684801 5675136

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