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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5833288 | 酸化に対して安定化されたCMP組成物及びCMP方法 | 2015年12月16日 | |
特許 5827221 | ポリシリコン除去速度の抑制のためのCMP組成物および方法 | 2015年12月 2日 | |
特許 5792889 | 窒化ケイ素材料の選択的研磨のための組成物および方法 | 2015年10月14日 | |
特許 5781906 | 化学機械研磨組成物及びその使用方法 | 2015年 9月24日 | |
特許 5749420 | 制御された細孔径を有する微孔質CMP材料の製造方法 | 2015年 7月15日 | |
特許 5749719 | バルクシリコンの研磨組成物および方法 | 2015年 7月15日 | |
特許 5727141 | 界面活性剤を含有する、希釈可能なCMP組成物 | 2015年 6月 3日 | |
特許 5711335 | ニッケル−リン被覆アルミニウムハードディスクの研磨のための組成物および方法 | 2015年 4月30日 | |
特許 5706336 | ワイヤーソーのカッティング中に磁性不純物を連続的に除去するワイヤーソー装置及び方法 | 2015年 4月22日 | |
特許 5698147 | ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物 | 2015年 4月 8日 | |
特許 5689581 | ポリシリコンの除去を制御するための方法 | 2015年 3月25日 | |
特許 5689970 | 高速及び低欠陥性のシリコン研磨組成物 | 2015年 3月25日 | |
特許 5684801 | ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 | 2015年 3月18日 | |
特許 5675136 | 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 | 2015年 2月25日 |
14 件中 1-14 件を表示
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5833288 5827221 5792889 5781906 5749420 5749719 5727141 5711335 5706336 5698147 5689581 5689970 5684801 5675136
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