特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第1576位　15件（2014年：　0件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第1350位　14件（2014年：　0件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5833288	酸化に対して安定化されたＣＭＰ組成物及びＣＭＰ方法	2015年12月16日
特許 5827221	ポリシリコン除去速度の抑制のためのＣＭＰ組成物および方法	2015年12月 2日
特許 5792889	窒化ケイ素材料の選択的研磨のための組成物および方法	2015年10月14日
特許 5781906	化学機械研磨組成物及びその使用方法	2015年 9月24日
特許 5749420	制御された細孔径を有する微孔質ＣＭＰ材料の製造方法	2015年 7月15日
特許 5749719	バルクシリコンの研磨組成物および方法	2015年 7月15日
特許 5727141	界面活性剤を含有する、希釈可能なＣＭＰ組成物	2015年 6月 3日
特許 5711335	ニッケル−リン被覆アルミニウムハードディスクの研磨のための組成物および方法	2015年 4月30日
特許 5706336	ワイヤーソーのカッティング中に磁性不純物を連続的に除去するワイヤーソー装置及び方法	2015年 4月22日
特許 5698147	ワイヤーソー切断のための切断用流体組成物	2015年 4月 8日
特許 5689581	ポリシリコンの除去を制御するための方法	2015年 3月25日
特許 5689970	高速及び低欠陥性のシリコン研磨組成物	2015年 3月25日
特許 5684801	ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物	2015年 3月18日
特許 5675136	化学機械的研磨のための透明な多孔性材料	2015年 2月25日

14 件中 1-14 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5833288 5827221 5792889 5781906 5749420 5749719 5727141 5711335 5706336 5698147 5689581 5689970 5684801 5675136

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数