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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第3054位 6件
(2017年:第7815位 2件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2454位 6件
(2017年:第4057位 3件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2018-538691 | 堆積チャンバでエピタキシャル層を有する半導体ウエハを製造する方法、エピタキシャル層を有する半導体ウエハを製造する装置、およびエピタキシャル層を有する半導体ウエハ | 2018年12月27日 | |
特表 2018-536991 | 単結晶半導体ウエハおよび半導体ウエハの製造方法 | 2018年12月13日 | |
特表 2018-524163 | ポリシリコンを機械的に分級するためのふるい機用のスクリーン板およびスクリーン板の使用 | 2018年 8月30日 | |
特表 2018-523625 | 粒状シリコンの熱処理プロセス、粒状シリコン、およびシリコン単結晶の製造プロセス | 2018年 8月23日 | |
特表 2018-510492 | エピタキシャルにコーティングされた半導体ウェハとエピタキシャルにコーティングされた半導体ウェハの製造方法 | 2018年 4月12日 | |
特表 2018-509362 | 単結晶IIIA族窒化物層を備える半導体ウェハ | 2018年 4月 5日 |
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2018-538691 2018-536991 2018-524163 2018-523625 2018-510492 2018-509362
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5月20日(火) -
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5月22日(木) -
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