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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第362位 94件 (2021年:第250位 164件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第254位 125件 (2021年:第232位 123件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7126836 | 位相シフトマスクブランク及びそれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 | 2022年 8月29日 | |
特許 7126925 | パターン描画方法、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 | 2022年 8月29日 | |
特許 7125844 | ガラス製成形型 | 2022年 8月25日 | |
特許 7123679 | フォトマスクの修正方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク及び表示装置の製造方法 | 2022年 8月23日 | |
特許 7121814 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法 | 2022年 8月18日 | |
特許 7118962 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 2022年 8月16日 | |
特許 7117081 | 防塵レンズ及びその製造方法 | 2022年 8月12日 | |
特許 7116849 | 内視鏡用プロセッサ、内視鏡システム、情報処理装置、プログラム及び情報処理方法 | 2022年 8月10日 | |
特許 7116095 | 着色ガラスおよびその製造方法 | 2022年 8月 9日 | |
特許 7113724 | フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 | 2022年 8月 5日 | |
特許 7112435 | 内視鏡 | 2022年 8月 3日 | |
特許 7109996 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 | 2022年 8月 1日 | |
特許 7109291 | 基板処理装置、基板処理方法、フォトマスク洗浄方法、及びフォトマスク製造方法 | 2022年 7月29日 | |
特許 7108523 | プレス成形装置、プレス成形方法及びプレス成形プログラム | 2022年 7月28日 | |
特許 7106492 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 | 2022年 7月26日 |
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7126836 7126925 7125844 7123679 7121814 7118962 7117081 7116849 7116095 7113724 7112435 7109996 7109291 7108523 7106492
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11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
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11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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