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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第191位 225件
(2019年:第177位 270件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第127位 223件
(2019年:第110位 254件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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再表 2018-221220 | 自動分析装置 | 2020年 2月27日 | |
再表 2019-49856 | 材料仕様情報サーバ、材料選択支援方法及び材料選択支援システム | 2020年 2月27日 | |
特開 2020-30089 | 分析システム | 2020年 2月27日 | |
特開 2020-31096 | 状態予測装置及び半導体製造装置 | 2020年 2月27日 | |
再表 2018-189877 | 荷電粒子線装置および細胞評価方法 | 2020年 2月20日 | |
再表 2018-155190 | 自動分析装置 | 2020年 2月13日 | |
特開 2020-25084 | プラズマ処理方法およびプラズマアッシング装置 | 2020年 2月13日 | |
再表 2018-180663 | プラズマ処理方法 | 2020年 2月 6日 | |
再表 2019-150885 | 磁気抵抗素子の製造方法及び磁気抵抗素子 | 2020年 2月 6日 | |
再表 2018-179081 | 検査装置 | 2020年 1月30日 | |
特開 2020-16449 | 自動分析装置および自動分析装置の漏水検知方法 | 2020年 1月30日 | |
特開 2020-16521 | 自動分析装置、方法、及び反応容器 | 2020年 1月30日 | |
特開 2020-17415 | 荷電粒子線装置 | 2020年 1月30日 | |
特開 2020-17451 | 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置における撮像条件調整方法 | 2020年 1月30日 | |
特開 2020-17565 | プラズマ処理装置 | 2020年 1月30日 |
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2018-221220 2019-49856 2020-30089 2020-31096 2018-189877 2018-155190 2020-25084 2018-180663 2019-150885 2018-179081 2020-16449 2020-16521 2020-17415 2020-17451 2020-17565
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
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