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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第259位 138件
（
2021年：第126位 332件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第85位 351件
（
2021年：第118位 240件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7095174 | 荷電粒子線装置 | 2022年 7月 4日 | |
| 特許 7095180 | ビーム偏向デバイス、収差補正器、モノクロメータ、および荷電粒子線装置 | 2022年 7月 4日 | |
| 特許 7094377 | プラズマ処理方法およびプラズマ処理に用いる波長選択方法 | 2022年 7月 1日 | |
| 特許 7094390 | 分光光度計および分光分析装置、ならびに分光光度計の製造方法 | 2022年 7月 1日 | |
| 特許 7092884 | 試料処理デバイスおよび装置 | 2022年 6月28日 | |
| 特許 7091074 | プラズマ処理装置 | 2022年 6月27日 | |
| 特許 7091164 | 核酸分析用基板、核酸分析用フローセル、及び解析方法 | 2022年 6月27日 | |
| 特許 7091263 | 電子顕微鏡及び３次元構造の深さ算出方法 | 2022年 6月27日 | |
| 特許 7086832 | ウェーハ搬送装置 | 2022年 6月20日 | |
| 特許 7085828 | プラズマ処理装置 | 2022年 6月17日 | |
| 特許 7085608 | 半導体装置の製造方法 | 2022年 6月16日 | |
| 特許 7085031 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2022年 6月15日 | |
| 特許 7083463 | 真空処理装置 | 2022年 6月13日 | |
| 特許 7083080 | プラズマ処理装置 | 2022年 6月10日 | |
| 特許 7080992 | 欠陥の発生を推定するシステム、及びコンピューター可読媒体 | 2022年 6月 6日 |
351 件中 166-180 件を表示
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7095174 7095180 7094377 7094390 7092884 7091074 7091164 7091263 7086832 7085828 7085608 7085031 7083463 7083080 7080992
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