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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第178位 185件 (2023年:第197位 193件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第179位 170件 (2023年:第172位 201件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-100769 | ポンプ装置及び電動機 | 2024年 7月26日 | |
特開 2024-98325 | 半導体製造装置における情報表示方法およびコンピュータプログラム | 2024年 7月23日 | |
特開 2024-94542 | 基板研磨装置、基板処理装置、方法、プログラム及び記憶媒体 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-94544 | 基板研磨装置、基板処理装置、方法、プログラム及び記憶媒体 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-94565 | 処理装置 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-94864 | 水嚢、および防水堤 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-95051 | 紫外線処理装置及び紫外線処理方法 | 2024年 7月10日 | |
特開 2024-93316 | プラズマ処理装置及び基板処理装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93324 | 基板吸着部材、トップリング、および基板処理装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93328 | トップリングおよび基板処理装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93432 | 基板研磨装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93464 | 光学式膜厚測定器の光量調整方法および研磨装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-93733 | 研磨方法、研磨装置、および記録媒体 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-94186 | 研磨装置 | 2024年 7月 9日 | |
特開 2024-92231 | 渦電流センサ、研磨装置および膜厚検出方法 | 2024年 7月 8日 |
186 件中 61-75 件を表示
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2024-100769 2024-98325 2024-94542 2024-94544 2024-94565 2024-94864 2024-95051 2024-93316 2024-93324 2024-93328 2024-93432 2024-93464 2024-93733 2024-94186 2024-92231
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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