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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第2064位 10件
(2017年:第1503位 18件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第2192位 7件
(2017年:第1304位 15件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6444794 | 半導体素子の製造方法及びその製造に用いられるプラズマエッチング装置 | 2018年12月26日 | |
特許 6438511 | エッチング保護膜形成用デポガス、プラズマエッチング方法、及びプラズマエッチング装置 | 2018年12月12日 | |
特許 6427043 | 配線基板の製造方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6412223 | プラズマ処理装置 | 2018年10月24日 | |
特許 6387131 | プラズマ加工方法及びこの方法を用いて製造された基板 | 2018年 9月 5日 | |
特許 6279498 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2018年 2月14日 | |
特許 6279933 | 炭化珪素半導体素子の製造方法 | 2018年 2月14日 |
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6444794 6438511 6427043 6412223 6387131 6279498 6279933
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