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東京応化工業株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第298位 135件
（
2014年：第266位 159件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第226位 131件
（2014年：第204位 207件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5808301 | パターン形成方法 | 2015年11月10日 | |
| 特許 5802106 | 積層体、および分離方法 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5802385 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5802394 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5802444 | 塗布装置及び塗布方法 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5802563 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5798792 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤 | 2015年10月21日 | |
| 特許 5792548 | ガラス加工方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5793331 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年10月14日 | |
| 特許 5789396 | レジストパターン形成方法 | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5789416 | 塗布装置及び塗布方法 | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5789460 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5789461 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5785847 | ＥＵＶ用又はＥＢ用レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 9月30日 | |
| 特許 5787307 | 二次電池用多孔質電極 | 2015年 9月30日 |
135 件中 16-30 件を表示
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5808301 5802106 5802385 5802394 5802444 5802563 5798792 5792548 5793331 5789396 5789416 5789460 5789461 5785847 5787307
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