ホーム > 特許ランキング > 東京応化工業株式会社 > 2015年 > 出願公開一覧
東京応化工業株式会社
※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2015年 出願公開件数ランキング 第298位 135件
（
2014年：第266位 159件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第226位 131件
（2014年：第204位 207件）
（ランキング更新日：2025年3月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-114336 | 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2015年 6月22日 | |
| 特開 2015-115462 | 塗布装置および塗布方法 | 2015年 6月22日 | |
| 特開 2015-108087 | シリカ系被膜形成用組成物及びこれを用いたシリカ系被膜の製造方法 | 2015年 6月11日 | |
| 特開 2015-108781 | ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び錯体 | 2015年 6月11日 | |
| 特開 2015-106089 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 | 2015年 6月 8日 | |
| 特開 2015-101500 | 化学強化ガラス基板の加工方法 | 2015年 6月 4日 | |
| 特開 2015-101604 | 感エネルギー性組成物 | 2015年 6月 4日 | |
| 特開 2015-102693 | パターン微細化用被覆剤 | 2015年 6月 4日 | |
| 特開 2015-98565 | 処理方法 | 2015年 5月28日 | |
| 特開 2015-99247 | フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法 | 2015年 5月28日 | |
| 特開 2015-99263 | ラインパターンの形成方法 | 2015年 5月28日 | |
| 特開 2015-99895 | 処理方法 | 2015年 5月28日 | |
| 特開 2015-96472 | アクリル酸エステル誘導体の製造方法並びに中間体およびその製造方法 | 2015年 5月21日 | |
| 特開 2015-96911 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2015年 5月21日 | |
| 特開 2015-93986 | ブラックカラムスペーサ形成用感光性樹脂組成物 | 2015年 5月18日 |
139 件中 61-75 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2015-114336 2015-115462 2015-108087 2015-108781 2015-106089 2015-101500 2015-101604 2015-102693 2015-98565 2015-99247 2015-99263 2015-99895 2015-96472 2015-96911 2015-93986
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
4月1日(火) - 山口 山口市
4月1日(火) -
4月2日(水) -
4月2日(水) -
4月4日(金) -
4月1日(火) - 山口 山口市
