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東京応化工業株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第288位 133件
（
2015年：第298位 135件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第233位 146件
（
2015年：第226位 131件）
（ランキング更新日：2024年11月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-128575 | 高分子化合物及び高分子化合物の製造方法 | 2016年 7月14日 | |
| 再表 2014-17644 | 光吸収層形成用塗布液の製造方法 | 2016年 7月11日 | |
| 特開 2016-114784 | 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法 | 2016年 6月23日 | |
| 特開 2016-106571 | スクリーニング装置およびスクリーニング方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-107206 | 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-108172 | エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-108435 | 下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-108436 | 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-108444 | 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-108445 | 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-111103 | 積層体の製造方法、封止基板積層体の製造方法、封止基板積層体及び封止基板 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-111106 | 積層体の製造方法、基板の処理方法及び積層体 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-111109 | 搬送方法および貼付装置 | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-111341 | 電磁波吸収体及び膜形成用ペースト | 2016年 6月20日 | |
| 特開 2016-90441 | 電子銃の電子線照射量の安定化方法、及びアウトガス評価方法 | 2016年 5月23日 |
135 件中 61-75 件を表示
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2016-128575 2014-17644 2016-114784 2016-106571 2016-107206 2016-108172 2016-108435 2016-108436 2016-108444 2016-108445 2016-111103 2016-111106 2016-111109 2016-111341 2016-90441
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