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東京応化工業株式会社

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　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第233位　146件（2015年：第226位　131件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-75901	レジストパターン形成方法	2016年 5月12日
特開 2016-75904	レジストパターンのトリミング方法	2016年 5月12日
特開 2016-68279	平坦化層を備える構造体	2016年 5月 9日
特開 2016-69289	ビニル基含有化合物の製造方法	2016年 5月 9日
特開 2016-69411	硬化性組成物及び光学部品	2016年 5月 9日
特開 2016-69417	組成物、硬化物及び光透過性積層体	2016年 5月 9日
特開 2016-69427	ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物	2016年 5月 9日
特開 2016-69624	膜形成性組成物、及びそれを用いた硬化被膜の製造方法	2016年 5月 9日
特開 2016-69637	ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物	2016年 5月 9日
特開 2016-70977	感光性シロキサン組成物及び光学部品	2016年 5月 9日
特開 2016-71020	半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製方法、半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製装置、及び半導体フォトリソグラフィー用薬液	2016年 5月 9日
特開 2016-71345	レジストパターン形成方法、レジストパターンスプリット剤、スプリットパターン改善化剤及びレジストパターンスプリット材料	2016年 5月 9日
特開 2016-65215	相分離構造形成用樹脂組成物	2016年 4月28日
特開 2016-65991	感光性樹脂組成物	2016年 4月28日
特開 2016-65992	感光性樹脂組成物	2016年 4月28日

135 件中 91-105 件を表示

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2016-75901 2016-75904 2016-68279 2016-69289 2016-69411 2016-69417 2016-69427 2016-69624 2016-69637 2016-70977 2016-71020 2016-71345 2016-65215 2016-65991 2016-65992

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