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東京応化工業株式会社

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第288位　133件（2015年：第298位　135件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第233位　146件（2015年：第226位　131件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-90753	リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法	2016年 5月23日
特開 2016-91021	レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法	2016年 5月23日
特開 2016-92079	支持体分離方法	2016年 5月23日
特開 2016-92120	レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法	2016年 5月23日
特開 2016-92140	レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法	2016年 5月23日
特開 2016-92396	均一系塗布液及びその製造方法、太陽電池用光吸収層及びその製造方法、並びに太陽電池及びその製造方法	2016年 5月23日
特開 2016-84350	化合物	2016年 5月19日
特開 2016-86092	不純物拡散層の形成方法	2016年 5月19日
特開 2016-79310	多孔質膜製造用ワニス、それを用いた多孔質膜の製造方法、及び多孔質膜製造用空孔形成剤	2016年 5月16日
特開 2016-79315	処理装置及び製造システム	2016年 5月16日
特開 2016-79338	膜製造システム及び膜製造方法	2016年 5月16日
特開 2016-80910	レジストパターン形成方法	2016年 5月16日
特開 2016-81835	多孔質膜、その製造方法、二次電池用多孔質セパレータ及び二次電池	2016年 5月16日
特開 2016-74890	硬化性組成物	2016年 5月12日
特開 2016-75853	感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置	2016年 5月12日

135 件中 76-90 件を表示

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2016-90753 2016-91021 2016-92079 2016-92120 2016-92140 2016-92396 2016-84350 2016-86092 2016-79310 2016-79315 2016-79338 2016-80910 2016-81835 2016-74890 2016-75853

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