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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第280位 165件
(
2016年:第288位 133件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第200位 158件
(
2016年:第233位 146件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6181955 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6182398 | 透明絶縁膜形成用組成物 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6176900 | ポリイミド樹脂の製造方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリアミック酸溶液の製造方法、ポリイミド膜、及びポリアミック酸溶液 | 2017年 8月 9日 | |
| 特許 6178052 | クレゾール類の精製方法、感光性樹脂組成物用ノボラック樹脂の製造方法、及び感光性樹脂組成物 | 2017年 8月 9日 | |
| 特許 6174331 | パターン形成方法、構造体、櫛型電極の製造方法、及び二次電池 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6174420 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの製造方法 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6175232 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6168884 | ネガ型感光性樹脂組成物 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6170990 | 化合物 | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6161332 | 硬化性組成物 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6162976 | 基板の処理方法 | 2017年 7月12日 | |
| 特許 6156898 | 深紫外LED及びその製造方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157081 | フォトリソグラフィ用剥離液、及びパターン形成方法 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157111 | 着色感光性樹脂組成物、カラーフィルタ及びカラー液晶表示素子 | 2017年 7月 5日 | |
| 特許 6157231 | 流体用容器 | 2017年 7月 5日 |
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6181955 6182398 6176900 6178052 6174331 6174420 6175232 6168884 6170990 6161332 6162976 6156898 6157081 6157111 6157231
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