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東京応化工業株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第280位 165件
（
2016年：第288位 133件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第200位 158件
（2016年：第233位 146件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6238635 | 化学増幅型感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパターンの製造方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6240409 | スルホニウム塩および光酸発生剤 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6240440 | チャンバー装置及び加熱方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6240471 | 反応現像画像形成法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6234546 | 二次電池用多孔質セパレータおよびそれを用いた二次電池 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6236284 | レジストパターン形成方法及びレジスト組成物 | 2017年11月22日 | |
| 特許 6230038 | 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6231423 | フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6232226 | 相分離構造を含む構造体の製造方法 | 2017年11月15日 | |
| 特許 6226596 | 支持体分離装置 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6227916 | 感エネルギー性樹脂組成物 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6228796 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6222887 | 再生レジストの製造方法及びレジストのリサイクル使用方法 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6223123 | 絶縁部形成用感光性樹脂組成物 | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6224490 | エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法 | 2017年11月 1日 |
162 件中 16-30 件を表示
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6238635 6240409 6240440 6240471 6234546 6236284 6230038 6231423 6232226 6226596 6227916 6228796 6222887 6223123 6224490
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