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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第287位 137件 (2017年:第280位 165件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第245位 119件 (2017年:第200位 158件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6422754 | エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法 | 2018年11月14日 | |
特許 6424052 | 感光性樹脂組成物 | 2018年11月14日 | |
特許 6418932 | 紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法 | 2018年11月 7日 | |
特許 6415217 | 平坦化層を備える構造体 | 2018年10月31日 | |
特許 6415374 | フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法 | 2018年10月31日 | |
特許 6410540 | 感光性樹脂組成物 | 2018年10月24日 | |
特許 6410871 | レジストパターン形成方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6412727 | 樹脂基板の製造方法および表示デバイスの製造方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6412786 | 搬送方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6406887 | 接着剤組成物及びその利用 | 2018年10月17日 | |
特許 6408802 | 感エネルギー性樹脂組成物 | 2018年10月17日 | |
特許 6401529 | 感光性組成物 | 2018年10月10日 | |
特許 6401545 | 感光性樹脂組成物及びカーボンブラック並びに感光性樹脂組成物の製造方法 | 2018年10月10日 | |
特許 6404028 | 多孔質ポリイミド膜の製造方法、セパレータの製造方法、及びワニス | 2018年10月10日 | |
特許 6404056 | 半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製方法、半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製装置、及び半導体フォトリソグラフィー用薬液 | 2018年10月10日 |
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6422754 6424052 6418932 6415217 6415374 6410540 6410871 6412727 6412786 6406887 6408802 6401529 6401545 6404028 6404056
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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