特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第307位　125件（2020年：第332位　110件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第260位　110件（2020年：第264位　105件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-18438	厚膜用フォトレジスト組成物及び厚膜フォトレジストパターン形成方法	2021年 2月15日
特開 2021-14631	表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法	2021年 2月12日
特開 2021-8550	硬化性樹脂組成物及び硬化物	2021年 1月28日
特開 2021-9885	シリコンエッチング液、シリコンエッチング方法、及びシリコンフィン構造体の製造方法	2021年 1月28日
特開 2021-6842	感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法	2021年 1月21日
特開 2021-4927	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年 1月14日
特開 2021-4931	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年 1月14日
特開 2021-4992	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年 1月14日
特開 2021-4993	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年 1月14日
再表 2019-146737	深紫外ＬＥＤ及びその製造方法	2021年 1月 7日
特開 2021-1259	ワニス組成物、ワニス組成物の製造方法、ポリイミド多孔質膜の前駆膜の製造方法、ポリイミド多孔質膜の前駆膜、及びポリイミド多孔質膜の製造方法	2021年 1月 7日

131 件中 121-131 件を表示

... 9

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-18438 2021-14631 2021-8550 2021-9885 2021-6842 2021-4927 2021-4931 2021-4992 2021-4993 2019-146737 2021-1259

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数