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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第2742位 7件
(2013年:第1715位 15件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1674位 14件
(2013年:第1509位 16件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5645178 | 高密度ワイドリボンイオンビーム生成のための小型プラズマソース | 2014年12月24日 | |
特許 5610543 | イオンソース | 2014年10月22日 | |
特許 5605729 | 絶縁材料に囲まれた導電デバイス、および電圧構造を電気的に遮蔽する方法 | 2014年10月15日 | |
特許 5594547 | 堆積する方法、エッチングする方法、および、フィーチャの製造方法 | 2014年 9月24日 | |
特許 5578533 | 太陽電池製造用の自己位置合わせマスキング | 2014年 8月27日 | |
特許 5568813 | マルチモードイオン源を提供する方法 | 2014年 8月13日 | |
特許 5534608 | トリプルジャンクション破壊に起因するイオン注入装置における不安定性を防ぐ高圧絶縁装置 | 2014年 7月 2日 | |
特許 5517132 | ガスを混合させることによってイオン源の性能を向上させると共にイオン源を長寿命化する技術 | 2014年 6月11日 | |
特許 5500486 | イオンソースのクリーニング方法および装置 | 2014年 5月21日 | |
特許 5472861 | 基板から層をへき開する方法及びデバイス | 2014年 4月16日 | |
特許 5449515 | リボンビームの均一性向上のための方法 | 2014年 3月19日 | |
特許 5399074 | リボン状イオンビームの成形装置およびその方法 | 2014年 1月29日 | |
特許 5397624 | イオン注入機に電子を閉じ込める技術 | 2014年 1月22日 | |
特許 5397623 | ビーム密度の二次元測定システム、方法および装置 | 2014年 1月22日 |
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5645178 5610543 5605729 5594547 5578533 5568813 5534608 5517132 5500486 5472861 5449515 5399074 5397624 5397623
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