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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第5202位 3件
（
2014年：第2742位 7件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1611位 11件
（
2014年：第1674位 14件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5831770 | イオンビームの中心線軌跡を中心に静電レンズを制御する方法および装置 | 2015年12月 9日 | |
| 特許 5818168 | 四重極レンズ、システムおよび方法 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5796076 | 高導電性静電チャック | 2015年10月21日 | |
| 特許 5791089 | 固有周波数を増大させた複合静電レンズ | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5791722 | ビームブロッカを用いたワークピースへのパターン注入 | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5791734 | コネクタアセンブリ及び超電導限流器 | 2015年10月 7日 | |
| 特許 5773317 | マスクおよび装置 | 2015年 9月 2日 | |
| 特許 5773319 | レジストフィーチャの表面粗度を低減する方法、およびパターニングレジストフィーチャの粗度を修正する方法 | 2015年 9月 2日 | |
| 特許 5733830 | シートを形成する方法及び装置 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5709867 | 基板を処理する方法 | 2015年 4月30日 | |
| 特許 5704577 | プラズマ処理装置および処理対象物を処理する方法 | 2015年 4月22日 | |
| 特許 5652771 | 分子イオンを生成する方法および装置 | 2015年 1月14日 |
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5831770 5818168 5796076 5791089 5791722 5791734 5773317 5773319 5733830 5709867 5704577 5652771
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