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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第6022位 3件
(2021年:第1205位 21件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第1358位 15件
(2021年:第9350位 1件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7174142 | グリッチを検出するためのシステム及び方法 | 2022年11月17日 | |
特許 7144530 | プロセスチャンバウインドウを冷却するためのシステム及び装置 | 2022年 9月29日 | |
特許 7127210 | イオン注入システムにおける発泡体 | 2022年 8月29日 | |
特許 7125549 | 高スループットイオンビーム処理のための抽出装置及びシステム | 2022年 8月24日 | |
特許 7121462 | 様々なグレーチングを有する回折光学素子を形成するためのシステムおよび方法 | 2022年 8月18日 | |
特許 7121801 | イオン注入装置内の粒子を低減するための導電性ビーム光学素子 | 2022年 8月18日 | |
特許 7118516 | 性能改善された抽出セット | 2022年 8月16日 | |
特許 7118519 | 固体ドーパント材料のための挿入可能なターゲットホルダ | 2022年 8月16日 | |
特許 7112523 | 保持力を加えるOリングを使用するためのシステム | 2022年 8月 3日 | |
特許 7106698 | バンチ化されたイオンビームを生成するための装置及び技術 | 2022年 7月26日 | |
特許 7083033 | 処理の均一性を改善するための基板ハローの配置 | 2022年 6月 9日 | |
特許 7080357 | インライン表面エンジニアリングソースを使用するシステム及び方法 | 2022年 6月 3日 | |
特許 7050163 | 内部加熱要素を含む電導性ビーム光学系 | 2022年 4月 7日 | |
特許 7034378 | バンチ化されたイオンビームを生成するための新規な装置及び技術 | 2022年 3月11日 | |
特許 7019050 | 犠牲マスクの除去を改善するための技術 | 2022年 2月14日 |
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7174142 7144530 7127210 7125549 7121462 7121801 7118516 7118519 7112523 7106698 7083033 7080357 7050163 7034378 7019050
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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