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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第12781位 1件
(2019年:第12951位 1件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第4019位 3件
(2019年:第8774位 1件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6801851 | 基板処理システム、イオン注入システム、およびビームラインイオン注入システム | 2020年12月16日 | |
特許 6752918 | 回転プラテン装置および回転ユニオン | 2020年 9月 9日 | |
特許 6652255 | イオン注入システム | 2020年 2月19日 |
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6801851 6752918 6652255
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