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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第771位 39件
（
2014年：第986位 28件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第907位 23件
（2014年：第1008位 28件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-88316 | 荷電粒子ビーム装置 | 2015年 5月 7日 | |
| 特開 2015-84345 | 集束イオンビーム装置及び断面加工観察方法 | 2015年 4月30日 | |
| 特開 2015-64603 | ＥＵＶマスク修正装置 | 2015年 4月 9日 | |
| 特開 2015-62170 | 修正装置 | 2015年 4月 2日 | |
| 特開 2015-57764 | イリジウムティップ、ガス電界電離イオン源、集束イオンビーム装置、電子源、電子顕微鏡、電子ビーム応用分析装置、イオン電子複合ビーム装置、走査プローブ顕微鏡、およびマスク修正装置 | 2015年 3月26日 | |
| 特開 2015-50068 | 荷電粒子ビーム装置 | 2015年 3月16日 | |
| 特開 2015-50069 | 荷電粒子ビーム装置 | 2015年 3月16日 | |
| 特開 2015-50126 | 断面加工観察方法、断面加工観察装置 | 2015年 3月16日 | |
| 特開 2015-43343 | 複合集束イオンビーム装置 | 2015年 3月 5日 |
39 件中 31-39 件を表示
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2015-88316 2015-84345 2015-64603 2015-62170 2015-57764 2015-50068 2015-50069 2015-50126 2015-43343
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