特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクサイエンス

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクサイエンス)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第982位　31件（2016年：第782位　38件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第724位　32件（2016年：第808位　29件）

（ランキング更新日：2024年11月11日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-223670	液体クロマトグラフおよび液体クロマトグラフの検出器出力値変動補正手段	2017年12月21日
特開 2017-187455	熱分析装置、及び試料分析システム	2017年10月12日
特開 2017-181135	走査型プローブ顕微鏡及びそのプローブ接触検出方法	2017年10月 5日
特開 2017-181323	走査型白色干渉顕微鏡を用いた三次元形状計測方法	2017年10月 5日
特開 2017-182923	試料ホルダー、集束イオンビーム装置	2017年10月 5日
特開 2017-183280	断面加工観察方法、断面加工観察装置	2017年10月 5日
特開 2017-173145	放射線分析装置、及び放射線分析方法	2017年 9月28日
特開 2017-173209	試料容器及び熱分析装置	2017年 9月28日
特開 2017-174503	集束イオンビーム装置	2017年 9月28日
特開 2017-174504	複合荷電粒子ビーム装置	2017年 9月28日
特開 2017-174730	荷電粒子ビーム装置及びプラズマ点火方法	2017年 9月28日
特開 2017-174748	制御装置、荷電粒子ビーム装置、プログラム及び加工品を生産する方法	2017年 9月28日
特開 2017-174773	荷電粒子ビーム装置	2017年 9月28日
特開 2017-167030	Ｘ線分析装置	2017年 9月21日
特開 2017-107874	集束イオンビーム装置及び断面加工観察方法	2017年 6月15日

32 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-223670 2017-187455 2017-181135 2017-181323 2017-182923 2017-183280 2017-173145 2017-173209 2017-174503 2017-174504 2017-174730 2017-174748 2017-174773 2017-167030 2017-107874

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクサイエンスの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数