特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクサイエンス

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクサイエンス)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第886位　33件（2018年：第838位　33件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第729位　30件（2018年：第744位　29件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-212636	複合荷電粒子ビーム装置	2019年12月12日
特開 2019-191087	干渉信号の位相補正方法	2019年10月31日
特開 2019-182487	管理タグ及び管理タグ付き容器	2019年10月24日
特開 2019-179700	荷電粒子ビーム装置	2019年10月17日
特開 2019-174315	原子吸光光度計における極微量分析診断方法および装置	2019年10月10日
特開 2019-174399	クロマトグラフのデータ処理装置、データ処理方法、およびクロマトグラフ	2019年10月10日
特開 2019-168400	走査型プローブ顕微鏡及びその走査方法	2019年10月 3日
特開 2019-160432	断面加工観察装置、断面加工観察方法及びプログラム	2019年 9月19日
特開 2019-148550	薄片試料作製装置および薄片試料作製方法	2019年 9月 5日
特開 2019-144006	プラスチック標準物質およびその製造方法	2019年 8月29日
特開 2019-145304	荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置のステージ駆動範囲制限方法およびプログラム	2019年 8月29日
特開 2019-145328	荷電粒子ビーム装置、試料加工観察方法	2019年 8月29日
特開 2019-145443	エミッターの作製方法	2019年 8月29日
特開 2019-128302	走査プローブ顕微鏡	2019年 8月 1日
特開 2019-121581	質量分析装置及び質量分析方法	2019年 7月22日

34 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2019-212636 2019-191087 2019-182487 2019-179700 2019-174315 2019-174399 2019-168400 2019-160432 2019-148550 2019-144006 2019-145304 2019-145328 2019-145443 2019-128302 2019-121581

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクサイエンスの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数