特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクサイエンス

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクサイエンス)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第986位　28件（2013年：第1169位　25件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第1008位　28件（2013年：第1072位　26件）

（ランキング更新日：2026年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2014-222674	電子顕微鏡	2014年11月27日
特開 2014-209450	集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビーム加工用コンピュータプログラム	2014年11月 6日
特開 2014-190921	蛍光Ｘ線分析装置	2014年10月 6日
特開 2014-190923	アクチュエータの位置算出装置、位置算出方法及び位置算出プログラム	2014年10月 6日
特開 2014-190958	ＩＣＰ発光分光分析装置	2014年10月 6日
特開 2014-191862	荷電粒子ビーム装置および観察像形成方法	2014年10月 6日
特開 2014-191864	集束イオンビーム装置、及び集束イオンビームの照射方法	2014年10月 6日
特開 2014-191872	エミッタ構造体、ガスイオン源、及び集束イオンビーム装置	2014年10月 6日
特開 2014-191982	集束イオンビーム装置及びその制御方法	2014年10月 6日
特開 2014-192037	荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置を用いた試料の加工方法、及び荷電粒子ビーム装置を用いた試料の加工コンピュータプログラム	2014年10月 6日
特開 2014-192090	集束イオンビーム装置、それを用いた試料の断面観察方法、及び集束イオンビームを用いた試料の断面観察用コンピュータプログラム	2014年10月 6日
特開 2014-190791	蛍光Ｘ線分析装置	2014年10月 6日
特開 2014-190833	ＩＣＰ分析装置	2014年10月 6日
特開 2014-190922	異物検出装置	2014年10月 6日
特開 2014-186894	集束イオンビーム装置	2014年10月 2日

28 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2014-222674 2014-209450 2014-190921 2014-190923 2014-190958 2014-191862 2014-191864 2014-191872 2014-191982 2014-192037 2014-192090 2014-190791 2014-190833 2014-190922 2014-186894

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクサイエンスの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数