特許ランキング - 出願人詳細情報 -

バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

※ ログインすれば出願人(バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第928位　29件（2017年：第2121位　11件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第899位　23件（2017年：第2056位　8件）

（ランキング更新日：2025年5月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-516233	ホウ素含有化合物、組成物、及びホウ素含有膜の堆積方法	2018年 6月21日
特表 2018-515910	基材の表面を処理する組成物、方法及びデバイス	2018年 6月14日
特開 2018-93225	窒化チタンハードマスク及びエッチ残留物除去	2018年 6月14日
特開 2018-80162	二置換アルキンジコバルトヘキサカルボニル化合物、その製造方法、及びその使用方法	2018年 5月24日
特開 2018-78326	ディスプレイ・デバイスのためのバリア材料	2018年 5月17日
特表 2018-511946	洗浄配合	2018年 4月26日
特開 2018-64119	多孔質低誘電率膜上に細孔封止層を設けるための方法及び組成物	2018年 4月19日
特表 2018-506618	化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法	2018年 3月 8日
特表 2018-506185	炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法	2018年 3月 1日
特開 2018-16812	腐食を低減するための化学機械研磨スラリー及びその使用方法	2018年 2月 1日
特開 2018-19075	バリア化学機械平坦化のための添加剤	2018年 2月 1日
特開 2018-14487	コバルト含有基材の化学的機械的研磨（ＣＭＰ）	2018年 1月25日
特開 2018-14503	ケイ素含有膜を調製するための方法	2018年 1月25日
特開 2018-14536	酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積	2018年 1月25日

29 件中 16-29 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2018-516233 2018-515910 2018-93225 2018-80162 2018-78326 2018-511946 2018-64119 2018-506618 2018-506185 2018-16812 2018-19075 2018-14487 2018-14503 2018-14536

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数