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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-516775	堆積プロセスにおける化学前駆体のバブリングのためのエーロゾルフリー型ベッセル	2020年 6月11日
特開 2020-83895	気相堆積のための低ハロゲン化物ランタン前駆体	2020年 6月 4日
特開 2020-88391	酸化ケイ素腐食防止剤を有するエッチング溶液、及びその使用方法	2020年 6月 4日
特表 2020-515713	ケイ素含有表面への選択的堆積	2020年 5月28日
特開 2020-76090	シャロートレンチ分離（ＳＴＩ）プロセスのためのＳｉＮ除去速度の抑制及び酸化物トレンチディッシングの低減	2020年 5月21日
特開 2020-77840	酸化物エロージョン低減のためのタングステン化学機械研磨	2020年 5月21日
特表 2020-513680	高密度ＯＳＧ膜用シリル架橋アルキル化合物の使用	2020年 5月14日
特開 2020-74353	化学機械研磨用タングステンバフ研磨スラリー	2020年 5月14日
特開 2020-65051	シャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）の化学機械平坦化研磨（ＣＭＰ）において酸化物／窒化物選択性を高め、酸化物トレンチのディッシングを低く均一化する方法	2020年 4月23日
特表 2020-511796	強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物	2020年 4月16日
特表 2020-511797	強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物	2020年 4月16日
特開 2020-59847	バリアスラリー除去速度の改善	2020年 4月16日
特開 2020-50861	低ディッシングおよび低浸食トポグラフィを伴うタングステン化学機械平坦化（ＣＭＰ）	2020年 4月 2日
特表 2020-509149	ケイ素含有膜の堆積のためのオルガノアミノ−ポリシロキサン	2020年 3月26日
特開 2020-47913	ポストエッチング残留物洗浄組成物及びその使用方法	2020年 3月26日

43 件中 16-30 件を表示

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2020-516775 2020-83895 2020-88391 2020-515713 2020-76090 2020-77840 2020-513680 2020-74353 2020-65051 2020-511796 2020-511797 2020-59847 2020-50861 2020-509149 2020-47913

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