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バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニー
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第680位 43件
（
2019年：第848位 35件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第914位 22件
（2019年：第950位 21件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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バーサム マテリアルズ ユーエス，リミティド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-38978 | 酸化ケイ素薄膜の高温原子層堆積 | 2020年 3月12日 | |
| 特開 2020-33643 | ケイ素及び窒素を含有する膜を製造する方法 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-36013 | 高い炭素含有量を有するケイ素含有膜の製造方法 | 2020年 3月 5日 | |
| 特開 2020-29554 | 酸化物化学機械平坦化（ＣＭＰ）研磨組成物 | 2020年 2月27日 | |
| 特開 2020-26532 | 酸化物材料を研磨するための化学機械平坦化組成物及びその使用方法 | 2020年 2月20日 | |
| 特開 2020-15899 | タングステン化学機械研磨組成物 | 2020年 1月30日 | |
| 特開 2020-17732 | ＴｉＮハードマスク除去及びエッチング残渣クリーニング用組成物 | 2020年 1月30日 | |
| 特開 2020-12197 | 流れ分配器を備える蒸気輸送コンテナ | 2020年 1月23日 | |
| 特開 2020-14007 | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法 | 2020年 1月23日 | |
| 特開 2020-2357 | 低酸化物トレンチディッシング化学機械研磨 | 2020年 1月 9日 | |
| 特開 2020-2358 | 低酸化物トレンチディッシング化学機械研磨 | 2020年 1月 9日 | |
| 特開 2020-2359 | 低酸化物トレンチディッシング化学機械研磨 | 2020年 1月 9日 | |
| 特開 2020-4968 | ポスト化学機械平坦化（ＣＭＰ）洗浄 | 2020年 1月 9日 |
43 件中 31-43 件を表示
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2020-38978 2020-33643 2020-36013 2020-29554 2020-26532 2020-15899 2020-17732 2020-12197 2020-14007 2020-2357 2020-2358 2020-2359 2020-4968
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12月4日(水) - 東京 港区
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12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月2日(月) - 滋賀 草津市
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