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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1583位 15件
(2020年:第680位 43件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第590位 38件
(2020年:第914位 22件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6856388 | ケイ素含有膜の高温原子層堆積 | 2021年 4月 7日 | |
特許 6856699 | 容器の乾燥及び分析試験のためのシステム及び方法 | 2021年 4月 7日 | |
特許 6849788 | 炭素ドープケイ素含有膜のための組成物およびそれを用いた方法 | 2021年 3月31日 | |
特許 6849792 | 表面フィーチャを充填する低k膜を作るための前駆体および流動性CVD法 | 2021年 3月31日 | |
特許 6852044 | フォトレジストストリッパー | 2021年 3月31日 | |
特許 6845252 | ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを用いた方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6813551 | シラ環状化合物及びそれを用いたケイ素含有膜の堆積方法 | 2021年 1月13日 | |
特許 6809787 | エッチング液及びその使用方法 | 2021年 1月 6日 |
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6856388 6856699 6849788 6849792 6852044 6845252 6813551 6809787
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4月23日(水) -
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4月23日(水) - 東京 千代田区
4月23日(水) -
4月23日(水) -
4月24日(木) - 東京 港区
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月25日(金) -
4月21日(月) -
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