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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6928035	有機アミノシラン前駆体およびこれを含む膜の堆積方法	2021年 9月 1日
特許 6920457	強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物	2021年 8月18日
特許 6916297	強誘電体材料としてのケイ素ドープ酸化ハフニウムの堆積のための新規配合物	2021年 8月11日
特許 6917961	半導体デバイスの製造中に窒化チタンに対して窒化タンタルを選択的に除去するためのエッチング液	2021年 8月11日
特許 6909251	フォトレジスト剥離剤	2021年 7月28日
特許 6904924	有機アミノジシラン前駆体、及びそれを含む膜の堆積方法	2021年 7月21日
特許 6905002	化学機械研磨用タングステンバフ研磨スラリー	2021年 7月21日
特許 6892418	半導体デバイスの製造中にシリコン−ゲルマニウム／シリコン積層体からシリコン−ゲルマニウム合金に対してシリコンを選択的に除去するためのエッチング液	2021年 6月23日
特許 6885984	ケイ素含有膜の堆積のための有機アミノ官能化環状オリゴシロキサン	2021年 6月16日
特許 6882468	表面フィーチャを充填する低ｋ膜を作るための前駆体および流動性ＣＶＤ法	2021年 6月 2日
特許 6878490	フォトレジスト剥離剤	2021年 5月26日
特許 6871161	ケイ素含有膜の堆積のための組成物及びそれを使用した方法	2021年 5月12日
特許 6866428	ＴｉＮハードマスク除去及びエッチング残渣クリーニング用組成物	2021年 4月28日
特許 6864086	酸化ケイ素膜の堆積のための組成物及び方法	2021年 4月21日
特許 6855420	半導体デバイスの製造中にシリコン−ゲルマニウム／シリコン積層体からシリコン−ゲルマニウム合金を選択的に除去するためのエッチング液	2021年 4月 7日

38 件中 16-30 件を表示

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6928035 6920457 6916297 6917961 6909251 6904924 6905002 6892418 6885984 6882468 6878490 6871161 6866428 6864086 6855420

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