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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第661位 43件
(2021年:第1583位 15件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第725位 34件
(2021年:第590位 38件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7071452 | 複合材粒子、その精製方法及びその使用 | 2022年 5月19日 | |
特許 7050738 | シャロートレンチ分離(STI)プロセスのためのSiN除去速度の抑制及び酸化物トレンチディッシングの低減 | 2022年 4月 8日 | |
特許 7048548 | 炭素ドープケイ素含有膜のための組成物及びそれを使用する方法 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7048550 | バリアスラリー除去速度の改善 | 2022年 4月 5日 | |
特許 7032266 | アルキルアルコキシシラ環状化合物及びそれを用いた膜の堆積方法 | 2022年 3月 8日 | |
特許 7028955 | 堆積プロセスにおける化学前駆体のバブリングのためのエーロゾルフリー型ベッセル | 2022年 3月 2日 | |
特許 7025534 | シリコン含有膜堆積用の組成物及び方法 | 2022年 2月24日 | |
特許 6993394 | ケイ素化合物及びケイ素化合物を使用してフィルムを堆積する方法 | 2022年 2月21日 | |
特許 7022100 | ポストエッチング残留物洗浄組成物及びその使用方法 | 2022年 2月17日 | |
特許 7007377 | 高成長速度のケイ素含有膜のための炭素架橋アミノシラン化合物 | 2022年 2月10日 | |
特許 7015214 | 半導体デバイスの製造中に窒化ケイ素を選択的に除去するためのエッチング溶液 | 2022年 2月 2日 | |
特許 6999714 | シャロートレンチアイソレーション化学機械研磨スラリー | 2022年 1月19日 | |
特許 6999602 | タングステン化学機械研磨組成物 | 2022年 1月18日 | |
特許 6999603 | ポスト化学機械平坦化(CMP)洗浄 | 2022年 1月18日 | |
特許 6999609 | 流れ分配器を備える蒸気輸送コンテナ | 2022年 1月18日 |
34 件中 16-30 件を表示
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7071452 7050738 7048548 7048550 7032266 7028955 7025534 6993394 7022100 7007377 7015214 6999714 6999602 6999603 6999609
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