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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第661位 43件
(2021年:第1583位 15件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第725位 34件
(2021年:第590位 38件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6999620 | 高い炭素含有量を有する炭素ドープ酸化ケイ素膜および炭化ケイ素膜の製造方法 | 2022年 1月18日 | |
特許 6995716 | 銅及びシリカ貫通電極(TSV)用途のための化学機械平坦化(CMP)組成物並びにその方法 | 2022年 1月17日 | |
特許 6993998 | 半導体デバイスの製造中にシリコン-ゲルマニウム/ゲルマニウムスタックからシリコン-ゲルマニウム合金を選択的に除去するためのエッチング溶液 | 2022年 1月14日 | |
特許 6990261 | 低研磨材濃度及び化学添加剤の組み合わせを有するシャロートレンチアイソレーション(STI)化学機械平坦化(CMP)研磨 | 2022年 1月12日 |
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6999620 6995716 6993998 6990261
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