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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニー

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バーサム　マテリアルズ　ユーエス，リミティド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-529516	固相前駆体の最適化された昇華用の多重領域加熱エンクロージャー	2024年 8月 6日
特表 2024-528866	銅バリアスラリーのためのパッドインボトル（ＰＩＢ）技術	2024年 8月 1日
特表 2024-524878	化学機械的平坦化スラリー用の添加剤としてのホスホニウム系ポリマー及びコポリマー	2024年 7月 9日
特表 2024-522472	イミダゾリウム系ポリ（イオン液体）及びその使用	2024年 6月21日
特表 2024-520363	半導体装置の製造の間に、ケイ素－ゲルマニウム／ケイ素スタックからケイ素－ゲルマニウム合金を選択的に除去するためのエッチング溶液	2024年 5月24日
特表 2024-519702	基材からフォトレジストを除去するための組成物及びその組成物の使用	2024年 5月21日
特表 2024-520121	超高純度の二塩化二酸化モリブデン、その充填された形態及びその調製方法	2024年 5月21日
特表 2024-519069	高弾性率を有する膜を堆積させるための新規な前駆体	2024年 5月 8日
特表 2024-517121	非球状一次シリカナノ粒子及びその使用	2024年 4月19日
特表 2024-514693	バナジウム含有膜の堆積	2024年 4月 2日
特開 2024-32775	ケイ素及び窒素を含有する膜を製造するための方法	2024年 3月12日
特表 2024-510263	高品質シリコン酸化薄膜の原子層堆積用組成物	2024年 3月 6日
特表 2024-508893	シリコン誘電体膜の選択的堆積	2024年 2月28日
特表 2024-508907	シリコン及びホウ素を含む膜用の組成物及びそれを用いる方法	2024年 2月28日
特表 2024-501478	銅及びシリコン貫通電極（ＴＳＶ）のための化学機械平坦化（ＣＭＰ）	2024年 1月12日

30 件中 16-30 件を表示

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2024-529516 2024-528866 2024-524878 2024-522472 2024-520363 2024-519702 2024-520121 2024-519069 2024-517121 2024-514693 2024-32775 2024-510263 2024-508893 2024-508907 2024-501478

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