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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5042918 | 絶縁油中のポリ塩化ビフェニル類の分析方法及び分析装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5042195 | 蒸着マスクの洗浄装置および洗浄方法 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5042197 | 化学分析装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5041937 | 検査装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039594 | レビュー装置，検査領域設定支援システム、および、欠陥の画像得方法 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039330 | 質量分析システム | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039456 | 液体クロマトグラフ分析装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039585 | キャピラリ電気泳動装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039656 | 質量分析装置および質量分析方法 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039083 | 画像作成方法、計算装置、画像作成プログラムおよび記憶媒体 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5038200 | 分離カラム及びそれを用いた液体クロマトグラフ装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5042162 | 半導体加工方法 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039452 | 磁場計測装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5039633 | 電子顕微鏡、及び非点収差評価方法 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5042686 | プラズマ処理装置 | 2012年10月 3日 |
547 件中 136-150 件を表示
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5042918 5042195 5042197 5041937 5039594 5039330 5039456 5039585 5039656 5039083 5038200 5042162 5039452 5039633 5042686
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