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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5028186 | 自動分析装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028125 | アミノ酸分析法およびアミノ酸分析システム | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028192 | プラズマ処理装置およびプラズマ安定度判定方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028014 | パターン検査方法及びその装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5030542 | 真空処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028159 | 荷電粒子線装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5027775 | 基板表面形状検出方法及びその装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028297 | 収差補正器を備えた荷電粒子線装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028193 | 半導体製造装置における被処理体の搬送方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028181 | 収差補正器およびそれを用いた荷電粒子線装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5026994 | 自動分析装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5030410 | 真空処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5031592 | Ｂ／Ｆ分離の洗浄方法及びＢ／Ｆ分離の洗浄装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5030856 | カラーフィルタの着色パターン修正装置及び着色パターン修正方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5027736 | 電子部品実装装置 | 2012年 9月19日 |
547 件中 166-180 件を表示
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5028186 5028125 5028192 5028014 5030542 5028159 5027775 5028297 5028193 5028181 5026994 5030410 5031592 5030856 5027736
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