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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年6月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4704824 | アミノ酸分析法および分析装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4709168 | レポート検索方法，レポート検索システム、およびレビュー装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705816 | プラズマ処理装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705789 | 真空処理装置 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4705442 | 電子線計測装置の静電偏向制御回路および静電偏向制御方法 | 2011年 6月22日 | |
| 特許 4699868 | 核酸精製方法及び核酸精製器具 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4703671 | 表面検査方法およびそれを用いた検査装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4699883 | 外観検査装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4703467 | 基板処理装置、基板処理方法、及び基板の製造方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4699854 | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4699873 | 欠陥データ処理及びレビュー装置 | 2011年 6月15日 | |
| 特許 4696097 | 試料像形成方法及び荷電粒子線装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4695959 | 集束イオンビーム装置及び集束イオンビーム装置の加工位置設定方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4695857 | 半導体検査方法および半導体検査装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4695362 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 6月 8日 |
350 件中 181-195 件を表示
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4704824 4709168 4705816 4705789 4705442 4699868 4703671 4699883 4703467 4699854 4699873 4696097 4695959 4695857 4695362
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