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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5028193 | 半導体製造装置における被処理体の搬送方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028192 | プラズマ処理装置およびプラズマ安定度判定方法 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028181 | 収差補正器およびそれを用いた荷電粒子線装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5028159 | 荷電粒子線装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5026916 | プラズマ処理装置 | 2012年 9月19日 | |
| 特許 5022873 | 核酸分析方法、及び核酸分析装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022852 | 液体クロマトグラフ装置および液体クロマトグラフ分析方法 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022781 | パターン欠陥検査装置およびパターン欠陥検査方法 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022191 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5021503 | パターン欠陥解析装置、パターン欠陥解析方法およびパターン欠陥解析プログラム | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5025588 | スペーサ形成検査裝置、表示用パネル製造裝置及び表示用パネル製造方法 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5026326 | エッチング処理状態の判定方法、システム | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5025609 | 真空処理装置 | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022951 | 半導体製造システム | 2012年 9月12日 | |
| 特許 5022719 | 荷電粒子線装置 | 2012年 9月12日 |
547 件中 181-195 件を表示
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5028193 5028192 5028181 5028159 5026916 5022873 5022852 5022781 5022191 5021503 5025588 5026326 5025609 5022951 5022719
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