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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4685637 | モノクロメータを備えた走査電子顕微鏡 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4685627 | 試料加工方法 | 2011年 5月18日 | |
| 特許 4679978 | 荷電粒子ビーム応用装置 | 2011年 5月11日 | 共同出願 |
| 特許 4681433 | キャピラリ電気泳動装置 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4681356 | 欠陥自動観察分類システム、欠陥自動観察分類システムにおける装置の選択方法、プログラム、及び観察装置 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680545 | 外観検査方法、および外観検査装置 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4682456 | 基板処理方法及び基板処理装置 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4679389 | イオン化エネルギーの低い試料を検出する検出器及び分析装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4679375 | キャピラリ電気泳動装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4679282 | 基板検査装置及び基板検査方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4676339 | 荷電ビーム装置及び試料作製・観察方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675860 | イオンミリング装置及びその方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675701 | イオンミリング装置およびイオンミリング方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675615 | 不良検査装置並びにプローブ位置決め方法およびプローブ移動方法 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4679172 | 表示用パネル基板の露光装置、表示用パネル基板の露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年 4月27日 |
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4685637 4685627 4679978 4681433 4681356 4680545 4682456 4679389 4679375 4679282 4676339 4675860 4675701 4675615 4679172
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