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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年6月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4664327 | パターン検査方法 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許 4664041 | 荷電粒子ビーム装置及び試料作製方法 | 2011年 4月 6日 | |
| 特許 4662424 | ガラス基板の検査方法及び検査装置、並びに表示用パネルの製造方法 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4660563 | 分離カラム及び液体クロマトグラフ | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4659707 | 自動分析装置 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4659395 | 質量分析装置及び質量分析方法 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4659054 | 自動分析装置 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4659004 | 回路パターン検査方法、及び回路パターン検査システム | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4659771 | プラズマ処理装置 | 2011年 3月30日 | |
| 特許 4658660 | 核酸検出法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4658756 | 画像処理装置、画像処理方法および走査型電子顕微鏡 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4655187 | ＴＡＢ搭載装置及び搭載方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4657949 | エッチング処理装置および自己バイアス電圧測定方法ならびにエッチング処理装置の監視方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4657620 | プラズマ処理装置 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4653603 | プラズマエッチング方法 | 2011年 3月16日 |
350 件中 241-255 件を表示
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4664327 4664041 4662424 4660563 4659707 4659395 4659054 4659004 4659771 4658660 4658756 4655187 4657949 4657620 4653603
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