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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年2月19日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4644065 | 走査型電子顕微鏡およびその画像表示方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4643206 | 質量分析装置 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4642714 | ディスク搬送機構、これを利用したディスク検査装置およびディスク検査方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4641924 | 半導体検査装置及び半導体検査方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4641242 | 試料分析前処理方法、試料分析前処理用ｐＨ指示薬及び試料分析前処理用キット | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4644617 | 荷電粒子線装置 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4643520 | 検査方法および検査装置 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4642358 | ウエハ載置用電極 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4640939 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 3月 2日 | |
| 特許 4637684 | 荷電粒子線応用装置 | 2011年 2月23日 | 共同出願 |
| 特許 4638864 | 試料表面の欠陥検査装置 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4638800 | 走査電子顕微鏡装置における機差管理システムおよびその方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4637642 | パターン間の欠陥検査装置および方法 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4636943 | 質量分析装置 | 2011年 2月23日 | |
| 特許 4637195 | 試料の電位測定方法及び荷電粒子線装置 | 2011年 2月23日 |
350 件中 286-300 件を表示
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4644065 4643206 4642714 4641924 4641242 4644617 4643520 4642358 4640939 4637684 4638864 4638800 4637642 4636943 4637195
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