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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5281024 | 試料ステージ及び同ステージを用いた電子顕微鏡装置 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5280983 | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置に使用する位置特定方法及びプログラム | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5280928 | 真空処理装置の運転方法 | 2013年 9月 4日 | |
| 特許 5276921 | 検査装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5276854 | パターン生成装置およびパターン形状評価装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5276833 | 欠陥検査方法及び欠陥検査装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5276385 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5275182 | 分注装置及び分析装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5275017 | 欠陥検査方法及びその装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5277317 | 荷電粒子顕微鏡 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5277250 | 荷電粒子線応用装置およびその幾何収差測定方法 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5277008 | パターン測定条件設定方法、及びパターン測定条件設定装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5276860 | 走査電子顕微鏡 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5274419 | 荷電粒子線装置 | 2013年 8月28日 | |
| 特許 5272051 | 荷電粒子線装置 | 2013年 8月28日 |
717 件中 286-300 件を表示
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5281024 5280983 5280928 5276921 5276854 5276833 5276385 5275182 5275017 5277317 5277250 5277008 5276860 5274419 5272051
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