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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4626976 | 基板検査装置及び基板検査方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4626975 | 基板検査装置及び基板検査方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4626764 | 異物検査装置及び異物検査方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4629452 | 産業用機器及び産業用機器の遠隔アクセス・システム | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628900 | プラズマ処理装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627782 | エッジ検出方法、及び荷電粒子線装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627771 | 荷電粒子線装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627467 | 電子ビーム検出器、電子ビーム計測方法、及び電子ビーム描画装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4629545 | 真空処理装置 | 2011年 2月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4627454 | 偏向器及びそれを用いたマルチ荷電粒子ビーム描画装置 | 2011年 2月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4625716 | 欠陥検査装置及び欠陥検査方法 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4620551 | 電解質測定装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620446 | 質量分析方法、質量分析システム、診断システム、検査システム及び質量分析プログラム | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4619892 | 自動分析装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4621098 | 走査型電子顕微鏡および画像信号処理方法 | 2011年 1月26日 |
350 件中 316-330 件を表示
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4626976 4626975 4626764 4629452 4628900 4627782 4627771 4627467 4629545 4627454 4625716 4620551 4620446 4619892 4621098
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