特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクノロジーズ

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクノロジーズ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第59位　659件（2013年：第59位　716件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第54位　625件（2013年：第51位　717件）

（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5467975	露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2014年 4月 9日
特許 5464533	荷電粒子線装置及びプログラム	2014年 4月 9日
特許 5468515	観察画像取得方法、走査型電子顕微鏡	2014年 4月 9日
特許 5464537	荷電粒子線装置	2014年 4月 9日
特許 5464536	荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の操作表示方法	2014年 4月 9日
特許 5464535	ＥＢＳＤ検出器で所望箇所を容易に分析できる荷電粒子線装置およびその制御方法	2014年 4月 9日
特許 5464534	荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置の調整方法	2014年 4月 9日
特許 5457866	スピンコート方法及びスピンコーター	2014年 4月 2日
特許 5460068	レーザ光状態検査方法及び装置並びにソーラパネル製造方法	2014年 4月 2日
特許 5462548	核酸分析素子及びそれを用いた核酸分析装置	2014年 4月 2日
特許 5461910	微粒子の凝集抑制方法及び保存液	2014年 4月 2日
特許 5460662	領域決定装置、観察装置または検査装置、領域決定方法および領域決定方法を用いた観察方法または検査方法	2014年 4月 2日
特許 5460479	パターン寸法測定装置及び輪郭線形成装置	2014年 4月 2日
特許 5459973	試料検査装置	2014年 4月 2日
特許 5456620	プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2014年 4月 2日

625 件中 376-390 件を表示

... 26

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5467975 5464533 5468515 5464537 5464536 5464535 5464534 5457866 5460068 5462548 5461910 5460662 5460479 5459973 5456620

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクノロジーズの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数