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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4922962 | 回路パターンの検査方法及び検査装置 | 2012年 4月25日 | |
| 特許 4922816 | イオン濃度測定装置 | 2012年 4月25日 | |
| 特許 4922710 | 電子顕微鏡の分解能評価用試料及び電子顕微鏡の分解能評価方法並びに電子顕微鏡 | 2012年 4月25日 | |
| 特許 4921302 | 質量分析システム | 2012年 4月25日 | |
| 特許 4922718 | 絶縁膜ドライエッチング方法 | 2012年 4月25日 | |
| 特許 4922778 | 遺伝子検査結果判定法およびプログラムおよびその装置 | 2012年 4月25日 | 共同出願 |
| 特許 4919733 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、及び基板の製造方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4920067 | 化学物質モニタ装置及び化学物質モニタ方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4919988 | 回路パターン検査装置、および回路パターン検査方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4919677 | 自動分析システム及び当該自動分析システムの制御方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4920991 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4920385 | 荷電粒子ビーム装置、走査型電子顕微鏡、及び試料観察方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4920268 | 半導体プロセスモニタ方法およびそのシステム | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4917839 | 走査型荷電粒子線装置、その像表示方法、および走査型顕微鏡 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4917359 | 荷電粒子線装置、及びそれを制御するためのプログラム | 2012年 4月18日 |
547 件中 391-405 件を表示
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4922962 4922816 4922710 4921302 4922718 4922778 4919733 4920067 4919988 4919677 4920991 4920385 4920268 4917839 4917359
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