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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5230740 | 欠陥レビュー装置および方法、並びにプログラム | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5232097 | ＰＣＢ実装処理装置及びＰＣＢ実装処理方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5235719 | パターン測定装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5235745 | 交換部品提示方法および交換部品提示装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5232064 | プラズマ処理装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5230534 | 液体金属イオン銃 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5235720 | 荷電粒子線装置用の試料支持装置 | 2013年 7月10日 | 共同出願 |
| 特許 5234652 | レーザ加工状態検査装置、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5227367 | プラズマ処理方法 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5227913 | 自動分析装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5227512 | 電子線応用装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5227209 | 自動分析装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5225396 | 露光装置、露光方法、及び基板製造方法 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5228080 | パターン欠陥検査方法および装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5228027 | 荷電粒子ビーム装置及び試料作製方法 | 2013年 7月 3日 |
717 件中 406-420 件を表示
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5230740 5232097 5235719 5235745 5232064 5230534 5235720 5234652 5227367 5227913 5227512 5227209 5225396 5228080 5228027
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