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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第54位 709件
（
2011年：第52位 689件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第71位 547件
（
2011年：第98位 350件）
（ランキング更新日：2025年1月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4908968 | 自動分析装置 | 2012年 4月 4日 | 共同出願 |
| 特許 4907092 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 | 2012年 3月28日 | 共同出願 |
| 特許 4906362 | 化学分析前処理装置 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4907196 | 質量分析用データ処理装置 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4906431 | 自動分析装置 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4906566 | 制御対象物手動操作制御システム | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4906558 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4906556 | プラズマエッチング装置およびプラズマエッチング方法 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4906425 | プラズマ処理装置 | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4902806 | 校正用標準部材 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4902230 | 質量分析装置 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4901766 | 自動分析装置 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4901528 | 自動分析装置 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4901196 | 画像形成方法、及び荷電粒子線装置 | 2012年 3月21日 | |
| 特許 4898713 | 表面検査装置および表面検査方法 | 2012年 3月21日 |
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4908968 4907092 4906362 4907196 4906431 4906566 4906558 4906556 4906425 4902806 4902230 4901766 4901528 4901196 4898713
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