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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5227902 | 荷電粒子顕微鏡装置及び荷電粒子ビーム制御方法 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5227643 | 高分解能でかつ高コントラストな観察が可能な電子線応用装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5226607 | ＦＰＤの電子部品実装装置 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5226378 | 透過型電子顕微鏡、及び試料観察方法 | 2013年 7月 3日 | |
| 特許 5221234 | 薄膜形成方法、薄膜形成装置、太陽電池パネルの製造方法および太陽電池パネルの製造装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222599 | 核酸分析デバイス及びそれを用いた核酸分析装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222588 | プラズマ処理装置の製造方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222906 | 生体試料の分析方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222820 | 異物検査方法および異物検査装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222784 | 液体のサンプリング方法、及び自動分析装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222771 | 自動分析装置 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222635 | 被検査物の検査装置及び検査方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5222507 | イオンビーム加工装置及び試料加工方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5221858 | 欠陥検査装置、及び欠陥検査方法 | 2013年 6月26日 | |
| 特許 5221750 | パターン測定方法及びパターン測定装置 | 2013年 6月26日 |
717 件中 421-435 件を表示
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5227902 5227643 5226607 5226378 5221234 5222599 5222588 5222906 5222820 5222784 5222771 5222635 5222507 5221858 5221750
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