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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第59位 716件
（
2012年：第54位 709件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第51位 717件
（
2012年：第71位 547件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5216408 | 自動分析システム | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216371 | 走査電子顕微鏡 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216318 | 蛍光検出装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216307 | 半導体外観検査装置および検査方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216274 | パターン評価方法及びその装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216051 | 自動分析装置および自動分析方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5215964 | 自動分析装置及びその検査の割当方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5215939 | 分光蛍光光度計および分光分析光度計 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5213765 | 表面検査装置及び表面検査方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216739 | 荷電粒子線装置、及び膜厚測定方法 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5216389 | 荷電粒子線装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5215332 | 真空処理装置 | 2013年 6月19日 | |
| 特許 5210903 | 試料分析装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210905 | プラズマ処理装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5210659 | プラズマ処理装置 | 2013年 6月12日 |
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5216408 5216371 5216318 5216307 5216274 5216051 5215964 5215939 5213765 5216739 5216389 5215332 5210903 5210905 5210659
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