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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4815295 | プラズマ処理装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4814731 | 基板保持装置、検査または処理の装置、基板保持方法、検査または処理の方法および検査装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4814682 | 微細構造パターンの転写方法及び転写装置 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4815298 | プラズマ処理方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4812393 | 蛍光分子計測システム | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812484 | ボルテージコントラストを伴った欠陥をレビューする方法およびその装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812422 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4810399 | 電子線装置用試料台 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4810377 | 光学式検査装置 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4812318 | 走査型電子顕微鏡を用いたパターン寸法の計測方法 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4810480 | 軌道検測車 | 2011年11月 9日 | |
| 特許 4804824 | プラズマ処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4806598 | 真空処理装置 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4808162 | 基板検査装置及び基板検査方法 | 2011年11月 2日 | |
| 特許 4808676 | 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法 | 2011年11月 2日 |
350 件中 46-60 件を表示
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4815295 4814731 4814682 4815298 4812393 4812484 4812422 4810399 4810377 4812318 4810480 4804824 4806598 4808162 4808676
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